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三星電機簽百億矽電容大單 瞄準AI伺服器電源完整性商機

三星電機與全球大型客戶簽訂總值約10億美元的矽電容長期供貨合約,交貨期涵蓋2027至2028年。此舉凸顯AI伺服器與高性能運算對電源穩定的迫切需求,矽電容將與傳統MLCC形成互補,共同強化封裝級電源管理能力。

Editorial Team2026/7/22更新 2026/7/22

百億長約鎖定AI伺服器商機

三星電機今年5月宣布,與全球大型客戶簽訂總值約10億美元的矽電容長期供貨合約,交貨期自2027年起延續至2028年。這項合作不僅反映矽電容在AI伺服器與高性能運算(HPC)領域的戰略重要性,也顯示業界對電源完整性需求的急劇增長。三星電機進一步透露,將矽電容、多層陶瓷電容(MLCC)與封裝基板整合的策略布局,以因應封裝級電源管理的挑戰。

隨著AI伺服器效能不斷提升,GPU熱設計功耗(TDP)持續攀升,對電源穩定性的要求也日益嚴苛。為確保運算穩定,Power Shelf、電壓調節模組(VRM)、DC-DC轉換器及OAM板等關鍵組件均需大量MLCC進行濾波與穩壓。然而,當AI加速器平台朝向chiplet架構、高頻寬記憶體(HBM)及高密度先進封裝演進時,電源完整性的挑戰已從傳統PCB板端延伸至封裝內部。

在多晶片模組(multi-die)架構中,GPU內部可能包含運算晶片、I/O晶片及NVLink I/O晶片等多個模組,並與HBM、矽中介層及封裝基板共同構成高密度系統。每個晶片與電源域均需獨立且快速響應的去耦網路,以應對瞬間電流變化。TrendForce集邦科技分析指出,在這種架構下,僅依賴板端MLCC可能導致電流路徑過長,寄生電感將限制瞬態響應速度,進而影響系統穩定性。

矽電容技術優勢補強傳統MLCC不足

矽電容以矽基板搭配氧化矽或氮化矽薄膜作為電介質,透過半導體製程製作,具備低等效串聯電感(ESL)特性。相較於MLCC依賴陶瓷介質與金屬電極多層堆疊,矽電容更接近半導體元件製造邏輯,可透過薄膜沉積及深槽結構等技術,實現更高的電容密度與更低的寄生效應。這使得矽電容能在封裝內部近晶片處佈署,縮短電流路徑,快速補償瞬間電流需求,維持電源穩定。

在AI GPU、CPU、ASIC及HBM等高負載運作情境下,矽電容的低ESL特性能有效應對電流快速變化,成為封裝級電源完整性的重要補充元件。三星電機此次簽訂的百億長約,不僅印證矽電容市場的成長潛力,也顯示供應鏈正積極布局。儘管MLCC仍是電源管理的主流選擇,但矽電容在高性能運算領域的應用前景已獲業界認可。

未來隨著AI伺服器與HPC系統對電源穩定性要求持續提高,矽電容與MLCC的互補關係將更加明顯。兩者結合將共同推動電容市場進入雙軌發展階段,滿足日益嚴苛的電源完整性需求。三星電機的策略布局,也為矽電容在AI伺服器領域的應用奠定了基礎,預計將吸引更多供應鏈廠商投入相關技術研發與生產。

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